中国股市：光刻机迎来最新突破5大龙头未来涨幅有望超200％值得重点关注！
华为再取新突破，公布光刻机新专利，有望成功打破国外芯片封锁
以中芯国际为首，实现了14nm芯片制程工艺的量产，实现了我国从28nm制程工艺向14nm跨越，而通富微电更是采用集成的方式，完美绕过EUV光刻机，实现了5nm制程工艺芯片的研发。像是上海微电子更是将光刻机拆分为几个大板块，采用逐个击破的方式进行研究，进展神速。
光刻机未来发展方向方面，当前，ASML正在加速NA从0.33向0.55演进。预计2025年后，0.55数值孔径的EUV光刻机能够实现量产， 不仅有望为1.5nm及1nm逻辑制程工艺提供支撑，还将在目前最先进的DRAM制程中得到应用。对于0.55 NA的光刻机而言，仅仅是光刻机系统的更新是不够的。
作为一个高协调性的复杂光学设备，光刻机中的任何一个部件变动都需要进行整体性的设计改良，因此为了配合0.55镜头的升级，光掩膜、光刻胶叠层和图案转移工艺等方面也需要进行优化，以确保整个光刻机的良好性能。
说几句题外话。入市十来年，经历牛、熊、猴市，七年前找寻到属于自己的交易法则，比如前段时间 帶 大家 做 的传艺科技、双成药业等，都已经翻了个蓓，华森制药（002907），格尔软件（603232）也是收获满满。
这两天也花了点时间 精 选 了一 只 优 质 票 ：处于低位底部，经过一轮洗盘，目前筹码足够，形成单峰密集，近期放量突破几年横盘区域，成功站上年线，并呈多头趋势排列，已有启动迹象。
公司亮点：致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案
公司生产的涂胶/显影机成功打破国外厂商垄断并填补国内空白,其中在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节,作为国内厂商主流机型已成功实现进口替代。产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。
公司亮点：国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一
晶瑞电子材料股份有限公司是一家微电子材料的平台型高新技术企业 公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业，主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。
公司亮点：国内最早研发并生产商品化色浆的企业之一
公司与马鞍山慈湖高新技术产业开发区管理委员会签订《入区协议》，并使用自有或自筹资金2.2 亿元，在马鞍山慈湖高新技术产业开发区投资建设“年产 56000 吨先进光敏材料及 1000 吨光刻胶纳米颜料分散液项目” 。
公司亮点：MO源产业化生产的企业
江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。近日拿到首个订单，拟进行小批量生产，目前尚未签署大批量订单。
公司亮点：国内主要的泛半导体直写光刻设备供应商之一
公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务,主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及上述产品的售后维保服务。
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